ໂລຫະ rotary ເປົ້າຫມາຍ

ເປົ້າຫມາຍຫມຸນແມ່ນເປົ້າຫມາຍແມ່ເຫຼັກ.ເປົ້າໝາຍແມ່ນເຮັດດ້ວຍຮູບຊົງກະບອກທີ່ມີແມ່ເຫຼັກຢູ່ພາຍໃນ, ເຊິ່ງ rotates ດ້ວຍຄວາມໄວຊ້າ.

──────────────────────────────────────── ────────

ວັດສະດຸ: W, Mo, Ta, Ni, Ti, Zr, Cr, TiAl

MOQ: 3 ຊິ້ນ

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ: ຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ແກ້ວສະຖາປັດຕະ, ແກ້ວອັດຕະໂນມັດ

ຮ້ອງຂໍໃບສະເໜີລາຄາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ເປົ້າໝາຍ Rotary ໂລຫະ

ສະໜາມແມ່ເຫຼັກ ແລະ ໄຟຟ້າແບບ Orthogonal ແມ່ນໃຊ້ລະຫວ່າງເປົ້າໝາຍ sputtering (cathode) ແລະ anode.ແລະຕື່ມໃສ່ອາຍແກັສ inert ທີ່ຕ້ອງການ (ປົກກະຕິແລ້ວແມ່ນ Ar) ຢູ່ໃນຫ້ອງສູນຍາກາດສູງ.ພາຍໃຕ້ການປະຕິບັດຂອງພາກສະຫນາມໄຟຟ້າ, ອາຍແກັສ Ar ແມ່ນ ionized ເປັນ ions ບວກແລະເອເລັກໂຕຣນິກ.ແຮງດັນສູງທາງລົບທີ່ແນ່ນອນແມ່ນໃຊ້ກັບເປົ້າຫມາຍ, ເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ປ່ອຍອອກມາໂດຍເປົ້າຫມາຍແມ່ນໄດ້ຮັບຜົນກະທົບຈາກພາກສະຫນາມແມ່ເຫຼັກ, ຄວາມເປັນໄປໄດ້ຂອງ ionization ຂອງອາຍແກັສທີ່ເຮັດວຽກເພີ່ມຂຶ້ນ, plasma ທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງກໍ່ຕັ້ງຢູ່ໃກ້ກັບ cathode, ແລະ Ar ions ໄດ້ຮັບຜົນກະທົບ. ໂດຍກໍາລັງ Lorentz.ຈາກນັ້ນເລັ່ງບິນໄປສູ່ພື້ນຜິວເປົ້າໝາຍ, ແລະຖິ້ມລະເບີດໃສ່ພື້ນຜິວເປົ້າໝາຍດ້ວຍຄວາມໄວສູງ, ເພື່ອໃຫ້ປະລໍາມະນູທີ່ຖືກສົ່ງອອກໄປໃສ່ເປົ້າໝາຍເປັນໄປຕາມຫລັກທຳຂອງການປ່ຽນແປງໃນປັດຈຸບັນ, ບິນຈາກພື້ນຜິວເປົ້າໝາຍໄປສູ່ຊັ້ນໃຕ້ດິນ, ແລະຝາກຟິມພະລັງງານ kinetic ສູງ.

ເພື່ອປັບປຸງອັດຕາການນໍາໃຊ້ຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍຕື່ມອີກ, cathode rotating ທີ່ມີປະສິດຕິພາບການນໍາໃຊ້ທີ່ສູງຂຶ້ນໄດ້ຖືກອອກແບບ, ແລະອຸປະກອນເປົ້າຫມາຍ tubular ຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການເຄືອບ sputtering.ການປັບປຸງອຸປະກອນ sputtering ຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີການປ່ຽນເປົ້າຫມາຍຈາກຮູບຮ່າງຮາບພຽງເປັນຮູບທໍ່ກົມ, ແລະອັດຕາການນໍາໃຊ້ຂອງເປົ້າຫມາຍການຫມຸນທໍ່ທໍ່ສາມາດສູງເຖິງ 70%, ເຊິ່ງສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນແກ້ໄຂບັນຫາການນໍາໃຊ້ຕ່ໍາຂອງເປົ້າຫມາຍຮາບພຽງ.

ຊື່ຜະລິດຕະພັນ	ໂລຫະ rotary ເປົ້າຫມາຍ
ວັດສະດຸ	W, Mo, Ta, Ni, Ti, Zr, Cr, TiAl
ຂະຫນາດຂາຍຮ້ອນ	ID-133/ OD-157x 3191 ມມ ID-133/OD-157 X 3855 ມມ ID-160/OD-180x1800mm ຍັງສາມາດໄດ້ຮັບການປຸງແຕ່ງຕາມຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງລູກຄ້າ
MOQ	3 ປ່ຽງ
ຊຸດ	ກໍລະນີໄມ້ອັດ

ຫມາຍເຫດ: ພວກເຮົາສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຜະລິດເປົ້າຫມາຍໂລຫະຕ່າງໆ, ກະລຸນາປຶກສາພວກເຮົາສໍາລັບລາຍລະອຽດ.

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ

ການເຄືອບ Sputtering ແມ່ນວິທີການເຄືອບອາຍແກັສທາງກາຍະພາບແບບໃໝ່.ເມື່ອປຽບທຽບກັບວິທີການເຄືອບການລະເຫີຍ, ມັນມີຂໍ້ດີທີ່ຈະແຈ້ງ
ໃນຫຼາຍດ້ານ.ເປົ້າຫມາຍ sputtering ໂລຫະໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ໃນຫຼາຍຂົງເຂດ.ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຕົ້ນຕໍຂອງການຫມຸນເປົ້າຫມາຍ.
■ຈຸລັງແສງຕາເວັນ
■ແກ້ວສະຖາປັດ
■ແກ້ວອັດຕະໂນມັດ
■ເຊມິຄອນດັກເຕີ
■ໂທລະພາບຈໍແບນ, ແລະອື່ນໆ

ຂໍ້ມູນການສັ່ງຊື້

ການສອບຖາມແລະຄໍາສັ່ງຄວນຈະປະກອບມີຂໍ້ມູນດັ່ງຕໍ່ໄປນີ້:
☑ເປົ້າໝາຍ ID × OD × L (ມມ).
☑ຈໍານວນທີ່ຕ້ອງການ.
☑ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາສໍາລັບຄວາມຕ້ອງການພິເສດເພີ່ມເຕີມ.